Titanaluminiumnitrid ist eine PVD-Schicht. Auch Titanaluminiumnitrid ist eine auf Mehrlagenstruktur basierende Weiterentwicklung der TiN-Schichten. Die Eigenschaften der TiAlN-Schichten hängen vom variierbaren Verhältnis zwischen Titan und Aluminium im Mischkristall ab. Es lassen sich sowohl Schichten mit höherem Titan- als auch überwiegendem Aluminiumanteil erzeugen. Viele der jüngeren und aktuellen Weiterentwicklungen bauen auf dieser Erkenntnis auf. TiAlN-Modifikationen zeichnen sich durch unübertroffen hohe Einsatztemperaturen von 900 bis über 1000°C und sehr hohe Härten aus.